產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。

產品用途：此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

CVD系統系周期作業，供企業實驗室，大專院校，科研院所等單位選用，設備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環境，應用在半導體，納米技術，碳纖維等新材料新工藝領域。