真空快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

PECVD系統配置：1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統4.真空系統（可選配中真空或高真空）

RTP快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。